Seehund® 系列氣相分解金屬污染收集設備（VPD）是專為積體電路製造、大晶圓生產及晶圓回收過程中的金屬污染監測方案的產品。由於目前的晶圓製造產業對金屬汙染控制的要求已經遠遠低於TXRF和ICP-MS能夠測量的極限，需要採用VPD對晶圓表面污染做大量蒐集，才能突破檢測靈敏度極限，滿足晶圓產線的需求。該設備採用了12吋及8吋晶圓產線設備所通用的國際標準零件，符合SEMI的設計標準，並經過了嚴格的穩定性和可靠性測試驗證。。